［受付中］Hauptman Ham, LLP 米国IPセミナー
☆One-Shot Prosecutionのススメ☆
ＲＣＥを要せずより早く、ローコストに権利取得するためのヒント-
開催にあたって 米国では一特許出願につき平均２．７回拒絶を受けています。多くの場合、２回目の拒絶が最終（Final）とされることから、平均的な出願は少なくとも１回RCEを経てからでないと認可にたどりつかない、と言えます。ご承知のようにRCEは時間のみでなくコストの面からも大きな課題です。庁費用（1,200ドル、Large Entity、１回目の場合。2017年1月14日施行）に加え、米国事務所の手数料を負担しなければなりません。これは翻訳費用を除く一出願にかかる費用に匹敵します。RCEの頻度を下げることができれば、同じ予算でより多くの出願が可能となるほか重要案件にかける費用、例えば審判費用を捻出することにもつながります。
ではRCEの頻度を減らすためにはどのような手法があるのでしょうか。本セミナーではいくつかの手法を紹介します。具体的にはRCEなしで認可までこぎつけるOne-Shot Prosecutionと名づけられた出願戦略における、Pre-Filing Review, Examiner Interview考察、クレームの立て方、AFCP 2.0、PPH、CSPの効果などについて解説いたします。これらの手法を駆使することで、一特許出願につき平均１．６９回まで拒絶回数を減らすことに成功した例もあります。
今回のセミナーを通して、限られた予算の中で質の良いポートフォリオを作るためにお役に立てることを願っており、そのためのヒントをご提供いたします。
♦日本弁理士会継続研修取得単位：2.5単位 この研修は、日本弁理士会の継続研修として申請中です。この研修を受講し、所定の申請をすると、外部機関研修として2.5単位が認められる予定です。
♦︎注意事項：15分以上遅刻をした場合には、受講したものと認められません。公共交通機関等の遅延、自己の行為に起因しない理由であっても、受講したものと認められませんので、時間に余裕をもって会場にお越しください。また、中座、早退の場合については、時間に関わらず、受講したものと認められません。
♦︎弁理士会継続研修：単位をご希望の方は、お申し込み時にその旨をご連絡ください。
【日 時】2017年8月28日（月） 午後2時～5時
【場 所】東京国際フォーラム ガラス棟G407
【事務所】Hauptman Ham, LLP
【講 師】Brad Copeley氏（Hauptman Ham, LLP 米国パテントエージェント）
【モデレータ】大庭健二氏（Hauptman Ham, LLP 東京オフィス ジェネラルマネージャ）
【言 語】英語（日本語での補足説明有り）
【参加費】無料
【募集人数】30名
【取得単位】2.5単位（予定）
【主 催】高岡知的財産グループ株式会社
【後 援】Hauptman Ham, LLP
【ご参加方法】ご参加をご希望される方は、下記お申込サイトからご登録をお願いいたします。
パテントターミナル